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荷擴大對光刻機管制 商務部:中方對此表示不滿
【發佈日期】2024-09-09 01:15:19 【我要列印】 【我要評論】

 

【本報綜合報道】據香港中通社及中新社北京9月8日消息,荷蘭6日宣佈,在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制範圍。中方8日對此表示不滿。

發言人:荷方應從大局出發

 

荷蘭6日公佈出口管制新規,規定該國半導體設備製造商阿斯麥(ASML)須向荷蘭政府申請出口許可證,才能將公司舊款深紫外浸沒式光刻系統運往中國。新規則已於7日生效。此前,阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱4日曾表示,美國以國家安全的名義限制該公司向中國客戶出口產品,但動機已越來越趨於“經濟考慮”。

中國商務部新聞發言人8日表示,中方注意到荷方相關情況。近來,中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。

發言人表示,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

新版外資准入負面清單發佈

 

另外中國國家發改委、商務部8日發佈《外商投資准入特別管理措施(負面清單)(2024年版)》,自2024年11月1日起施行。新版負面清單實現製造業外資准入限制“清零”。

近年來,中國不斷放寬外資准入,2017年至2021年連續五年修訂全國和自貿試驗區外資准入負面清單,兩個清單的限制措施分別由93條、122條縮減至31條、27條,在製造業、採礦業、農業、金融業等領域推出了一系列重大開放措施,其中自貿試驗區外資准入負面清單製造業領域限制措施已於2021年率先實現“清零”。

國家發改委介紹,2024年版全國外資准入負面清單限制措施由31條減至29條,删除了“出版物印刷須由中方控股”,以及“禁止投資中藥飲片的蒸、炒、炙、煆等炮製技術的應用及中成藥保密處方產品的生產”2個條目,製造業領域外資准入限制措施實現“清零”。

專家表示,當前,幾乎所有發展中國家都對製造業實施外資准入限制,甚至部分發達經濟體仍然對製造業實施一定的外資准入限制。新版負面清單標誌著中國製造業的開放水平不但在發展中國家中明顯領先,甚至高於相當一部分發達經濟體。

製造業之後,中國下一步擴大開放將瞄準服務業。

國家發改委表示,一方面,將創新方式放寬服務業外資准入。今年以來,相關行業主管部門在增值電信等領域啟動了開放試點工作。後續,國家發改委將與相關行業主管部門結合自由貿易試驗區、自由貿易港等平台建設,紮實開展相關領域開放試點工作。

另一方面,官方將持續優化外資促進政策。國家發改委正在研究修訂鼓勵外商投資產業目錄,重點方向之一就是繼續增加服務業條目,引導更多外資投向服務業領域。

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